ATPAK封装采用夹焊技术提升散热性
随着封装尺寸变得更小,器件内的温度往往增高,因为它变得更难于导出多余热量。而散热性对总能效、安全及系统可靠性至关重要。ATPAK封装采用夹焊技术,可将热阻抗及总导通电阻降至低,比采用传统的金属线粘结的DPAK封装大大提升电流处理能力。热阻抗是指1 W热量所引起的温升大小,单位为℃/W。热阻抗越低,散热性越好。经选用相同规格的ATPAK和 DPAK 器件进行测试和对比,结果显示即使无散热片时的热阻抗相同,在采用散热片后 ATPAK 比 DPAK 的热阻抗低 6℃/W。具体测试详情
传统的金属线粘结使用金、铜或铝来连接封装中硅芯片的每个电极。然而,由于每种线都相对较薄,这从根本上限制了电流处理。通过增添更多并联的导线可减少这限制,但这将影响整体成本,且可并联邦定的导线数量有实际限制。由于汽车功率MOSFET在高温环境下执行大电流驱动控制,低导通阻抗是汽车方案的一项关键性能因数。对于低导通电阻的MOSFET,导线电阻可代表封装中相当大的总阻抗。尤其在要求导通阻抗低于20 mΩ的应用中,导线的阻抗不能忽略。
夹焊技术使用铜夹直接连接每个电极,可大幅降低漏-源极路径电气阻抗,从而降低导通阻抗,并实现更好的热传导。测试结果显示,夹焊比铝线粘结降低30%的导通阻抗,比金线粘结降低达90%的导通阻抗。而且夹焊技术使用宽横截面积的铜板,大大提高了电流处理能力,消除传统工艺中高电流可熔断导线的问题。
ATPAK电流处理能力高达100 A,这也是D2PAK能达到的大电流处理能力。而且,ATPAK的成本几乎与DPAK一样。因此,在设计中采用ATPAK替代D2PAK,既可减小50%的封装尺寸,又可实现相同的性能,达到节省空间和提升功率处理能力的双重目的,还不增加成本。
ATPAK P沟道功率MOSFET的优势
经与竞争对手的P沟道MOSFET相比,安森美半导体的ATPAK P沟道MOSFET提供更小的尺寸、更低的导通阻抗、更高的电流处理能力和更出色的抗雪崩能力。抗雪崩能力指的是电感中存储的能量放电到功率MOSFET中时的易受影响程度。此外,静电放电(ESD)总是封装及实际使用要克服的挑战,汽车应用环境中可能会出现ESD,原因是机械摩擦,此外,干燥的空气往往也会增加静电放电。ESD可能会导致机械故障。所以安森美半导体的ATPAK P沟道功率MOSFET嵌入保护二极管以增强ESD强固性。
相比N沟道MOSFET需要电荷泵以降低导通阻抗,P沟道方案无需电荷泵,以更少的元件提供更简单和更可靠的驱动。
安森美半导体的P沟道汽车MOSFET产品阵容
安森美半导体提供宽广的P沟道MOSFET产品系列以满足各种不同的汽车应用需求,采用ATPAK封装的P沟道MOSFET由于低导通电阻和的散热性,可用于达65 W的应用。设计人员可根据具体设计需求选择适合的MOSFET。
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